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PVD薄膜制备

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更新日期2022-04-18 13:34

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PVD薄膜制备
基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,MoorfieldNanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽大学等多所著名大学科研团队的具体需求,经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台,该系列产品包含了磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧,但是性能优越,能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备,通常在大型设备中才有的共溅射和反应溅射功能也可以在该系列产品上实现。准确的有机物沉积系统更是该系列的一大特色。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。
设备型号
台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统-nanoPVDS10A
nanoPVDS10A是MoorfieldNanotechnology倾力打造的一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧,但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足前沿学术研究的问题。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。
nanoPVDS10A多可安装3个水冷式溅射源,可实现高功率持续运行,靶材尺寸与大型系统一样是行业通用尺寸。系统可以实现两源共溅射方案,可以实现反应溅射方案,多可同时控制3路气体。系统具有分子泵,可快速达到5*10-7mbar高真空。腔体取放样品非常方便,样品台大尺寸4英寸,系统有智能化的触屏控制系统,采用完备的安全设计方案。
https://www.chem17.com/st166724/product_34660266.html
http://www.chem-qdc.com/SonList-1490513.html

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