纹路晶片
防反射涂层和钝化层可以在单晶和多晶硅晶片上测量。
叠层防反射涂层
可以分析SiO2/SiNx、Al2O3/SiNx和SiNx1/SiNx2的涂层。
操作简单
不管是专家还是初学者，光谱椭偏仪SE800PV都提供了简单的操作。配方模式特别适合质量控制所需的常规应用。
激光椭偏仪是分析结晶和多晶硅太阳能电池防反射膜的理想工具。可以测量单层薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多层叠层膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。
SE800PV是基于步进扫描分析器测量模式。步进扫描分析器模式允许将测量参数匹配到粗糙的样本表面，同时所有光学部件都处于静止状态。SE800PV的光源、光学部件和检测器进行了优化，以符合SENTECH的目标，即快速、准确地测量PV应用的折射率指数、吸收和膜厚。
高测量灵敏度、去偏振校正和特殊的集光光学使SE800PV成为在粗糙样品表面进行光伏应用的理想仪器。
光谱椭偏仪SE800PV具有操作简单的特点、便于研发应用。SpectraRay/4，SENTECH专有的椭偏仪软件，包括两种操作模式。配方模式允许在质量控制中轻松执行常规应用程序。交互模式具有指导性的图形用户界面，适合于研发应用和新配方的开发。
此外，SE800PV满足SENresearch光谱椭偏仪系列的所有要求。
http://www.chxwcx.com/ParentList-2425964.html
https://www.chem17.com/st207575/product_37542955.html
